【ITBEAR科技資訊】6月18日消息，近日有報道指出，三星電子正考慮對其位于美國得克薩斯州泰勒的工廠進行工藝升級，計劃將制程技術從4納米提升至2納米。這一舉措被視為三星電子為增強與臺積電美國廠以及英特爾等競爭對手的競爭力而做出的重要策略調整。據悉，三星電子可能會在今年第三季度做出最終決策。
該泰勒工廠自2021年開始投資興建，并于次年動工，目前計劃于2024年底逐步投入運營。此前，三星電子DS部門前負責人Lee Bong-hyun曾公開表示，工廠原計劃在2024年底開始出貨4納米產品。然而，隨著技術的不斷進步和市場競爭的加劇，三星電子顯然希望進一步提升其技術實力，以保持行業領先地位。
據ITBEAR科技資訊了解，與此同時，英特爾也計劃今年在亞利桑那州和俄亥俄州的工廠量產Intel 20A和18A工藝，而臺積電則在美國建設三座晶圓廠，并有著明確的制程技術投產時間表。面對如此激烈的市場競爭，三星電子調整制程技術的決策無疑是為了更好地應對行業挑戰，并滿足市場對于更先進制程技術的需求。
在今年4月的第一季度業績發布會上，三星電子透露，他們正根據客戶訂單情況，計劃分階段啟動泰勒工廠的運營，并預計在2026年實現首次量產。此外，該工廠還為三星電子帶來了美國政府的64億美元補貼，預計到2030年，該工廠的總投資將超過400億美元。
對于此次工藝升級是否會對原有投資計劃產生影響，目前尚不得而知。然而，可以預見的是，隨著制程技術的提升，三星電子在全球半導體市場的競爭力將進一步增強。
