在臺(tái)積電先前采購(gòu)EUV (極紫外光) 微影系統(tǒng)設(shè)備之后，英特爾今日和ASML共同宣布首度率先采購(gòu)下世代最新EUV設(shè)備High-NA，并計(jì)劃2025年導(dǎo)入量產(chǎn)。
依據(jù)雙方今日共同新聞稿提到，英特爾和ASML加強(qiáng)合作，推動(dòng)High-NA在2025年投入制造，此次是英特爾率先且首次訂購(gòu)ASML的TWINSCAN EXE：5200系統(tǒng)，象征著邁出關(guān)鍵一步。
ASML并未揭露哪家半導(dǎo)體廠率先采用下世代EUV，不過(guò)自2018年已經(jīng)接獲4臺(tái)新一代High-NA EUV (TWINSCAN EXE:5000) 訂單，當(dāng)時(shí)就被業(yè)界點(diǎn)名是臺(tái)積電率先預(yù)定。
如今英特爾則率先采采購(gòu)TWINSCAN EXE：5200，讓ASML再度接到一筆新的High-NA EUV訂單。
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