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此前有報道稱,近期臺積電(TSMC)首席執(zhí)行官魏哲家訪問了ASML的總部,同時也拜訪了激光供應(yīng)商Trumpf,與對方的高層會面。臺積電似乎改變了之前對High-NA EUV光刻技術(shù)的一些看法,或許會加快引入新技術(shù)和新設(shè)備的步伐。

據(jù)Wccftech報道,ASML發(fā)言人Monique Mols向媒體提及,ASML首席財務(wù)官Roger Dassen已確認(rèn)今年年底前將向英特爾和臺積電運送兩臺High-NA EUV光刻機(jī)。受到該消息刺激,ASML的股價在今天開盤后大漲,美東時間6月5日收盤時上漲了9.52%。

由于英特爾在購買High-NA EUV光刻機(jī)方面表現(xiàn)得相當(dāng)積極,新設(shè)備出現(xiàn)時已搶先下單,并在去年末接收了業(yè)界首臺商用High-NA EUV光刻機(jī),前一段時間已完成組裝工作。傳聞英特爾已經(jīng)獲得了明年上半年之前生產(chǎn)的大部分High-NA EUV光刻機(jī),所以選擇繼續(xù)接收屬于正常操作。真正讓人感到意外的是臺積電,要知道不久之前,臺積電高層還在否定短期內(nèi)引入High-NA EUV光刻機(jī)的做法,認(rèn)為設(shè)備過于昂貴,A16制程工藝的公布一定程度上也印證了這種想法。

隨著ASML證實了臺積電將在今年引入High-NA EUV光刻機(jī),已經(jīng)有媒體聯(lián)系了臺積電了解相關(guān)情況,不過得到的答復(fù)是屬于與供應(yīng)商之間的密切合作,似乎現(xiàn)階段不想做太多的回應(yīng)。據(jù)了解,三星和SK海力士明年也將得到High-NA EUV光刻機(jī),預(yù)計在2025年下半年。

此前有報道稱,一臺High-NA EUV光刻機(jī)的價格大概為3.8億美元,是EUV(約1.83億美元)的兩倍多,目前ASML每年High-NA EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能大概在5到6臺,收到的訂單數(shù)量在10至20臺之間。

【來源:超能網(wǎng)】

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標(biāo)簽:三星 光刻 積電 英特爾 引入
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