【ITBEAR科技資訊】5月26日消息，據(jù)塔斯社最新報道，俄羅斯在半導體制造領(lǐng)域取得了顯著進展，其首臺自主研制的光刻機已經(jīng)完成制造并進入了測試階段。俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長Vasily Shpak在近日透露了這一重要信息。
Shpak指出，這臺光刻機能夠確保生產(chǎn)出350納米工藝的芯片，這標志著俄羅斯在半導體生產(chǎn)技術(shù)上邁出了重要一步。他強調(diào)，“我們已經(jīng)成功組裝并制造出了首臺國產(chǎn)光刻機，目前它正在作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分進行測試。”此外，俄羅斯還設(shè)定了下一個目標，即在2026年制造出可以支持130nm工藝的光刻機。
350納米工藝的芯片，雖然在某些領(lǐng)域可能被視為較為落后的技術(shù)，但實際上，它仍然在汽車、能源和電信等多個行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用。因此，這臺光刻機的成功研制，無疑將增強俄羅斯在這些關(guān)鍵領(lǐng)域的自主研發(fā)和生產(chǎn)能力。
此前俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所(IPF RAS)曾宣布，他們正在開發(fā)俄羅斯首套能夠使用7nm工藝生產(chǎn)芯片的光刻設(shè)備，并計劃在2028年全面投產(chǎn)。這一雄心勃勃的計劃顯示出俄羅斯在半導體技術(shù)領(lǐng)域的長遠規(guī)劃和堅定決心。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，該研究所計劃在六年內(nèi)完成光刻機的工業(yè)原型制作。其中，2024年將開發(fā)出一臺名為“alpha機器”的初步版本，其重點不在于工作速度，而在于系統(tǒng)的全面性。此后，將在2026年以更加優(yōu)化和高效的“Beta版本”取代“alpha機器”，并計劃將其集成到實際的技術(shù)流程中。
