集微網(wǎng)消息，據(jù)businesskorea報(bào)道，韓國(guó)本土企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得重大進(jìn)展。
韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局(KIPO)發(fā)布的《過(guò)去10年(2011-2020年)專(zhuān)利申請(qǐng)報(bào)告》顯示，2014年，向韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局(KIPO)提交的與EUV光刻相關(guān)的專(zhuān)利申請(qǐng)數(shù)量達(dá)到88件的峰值，2018年達(dá)到55件，2019年達(dá)到50件。
特別是，韓國(guó)公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國(guó)公司的差距。2019年，韓國(guó)本土提出的專(zhuān)利申請(qǐng)數(shù)量為40件，超過(guò)了國(guó)外企業(yè)的10件。這是韓國(guó)提交的專(zhuān)利申請(qǐng)首次超過(guò)國(guó)外。2020年，韓國(guó)提交的申請(qǐng)數(shù)量也是國(guó)外的兩倍多。
過(guò)去10年，包括三星電子在內(nèi)的全球企業(yè)進(jìn)行了密集的研發(fā)，以確保技術(shù)領(lǐng)先地位。最近，代工公司開(kāi)始使用5nm EUV光刻技術(shù)來(lái)生產(chǎn)智能手機(jī)的應(yīng)用處理器。
從公司來(lái)看，全球六大公司的專(zhuān)利申請(qǐng)數(shù)占了總數(shù)的59%，卡爾蔡司(德國(guó))18%，三星電子(韓國(guó))15%，ASML(荷蘭)11%，S&S Tech(韓國(guó))8%，臺(tái)積電(中國(guó)臺(tái)灣)6%，SK海力士(韓國(guó))1%。
從具體技術(shù)項(xiàng)目看，工藝技術(shù)申請(qǐng)專(zhuān)利占32%，曝光裝置技術(shù)申請(qǐng)專(zhuān)利占31%，掩膜技術(shù)申請(qǐng)專(zhuān)利占28%，其他申請(qǐng)專(zhuān)利占9%。在工藝技術(shù)領(lǐng)域，三星電子占39%，臺(tái)積電占15%。在光罩領(lǐng)域，S&S科技占28%，Hoya(日本)占15%，漢陽(yáng)大學(xué)(韓國(guó))占10%，朝日玻璃(日本)占10%，三星電子占9%。
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