【ITBEAR科技資訊】7月3日消息，荷蘭政府最近宣布了一項(xiàng)新規(guī)定，限制了某些先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備的出口。據(jù)該規(guī)定，從9月1日起，荷蘭的先進(jìn)芯片制造設(shè)備公司在出口之前必須獲得許可證。這一決定對(duì)于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)具有重要意義。
在此次限制措施中，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML被特別提及。ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，在未來出口其先進(jìn)的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)時(shí)，將需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。需要注意的是，此前ASML的EUV系統(tǒng)的銷售已經(jīng)受到限制。這一措施顯示了荷蘭政府對(duì)于先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)的高度關(guān)注和控制。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，ASML目前在售的主流浸沒式DUV光刻機(jī)共有三款產(chǎn)品，分別是TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i。其中，ASML在今年3月表示，預(yù)計(jì)2000i和2050i這兩款產(chǎn)品將受到荷蘭政府的出口限制。然而，根據(jù)ASML官網(wǎng)上關(guān)于TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，該款浸潤式DUV光刻機(jī)并不在限制范圍內(nèi)。
TWINSCAN NXT:1980Di在分辨率方面具備高度優(yōu)勢(shì)，其一次曝光的分辨率大于等于38納米，支持的工藝達(dá)到7納米左右。值得注意的是，光刻機(jī)可以通過多次曝光來實(shí)現(xiàn)更小尺寸的芯片制造。雖然使用TWINSCAN NXT:1980Di可能會(huì)增加步驟復(fù)雜性、提高成本并降低良率，但主要用于生產(chǎn)14納米及以上工藝的芯片，對(duì)于14納米以下工藝的生產(chǎn)較少。因此，盡管ASML的部分產(chǎn)品受到限制，公司仍能保持一定程度的競(jìng)爭力。
這一限制措施對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展將產(chǎn)生重要影響。盡管ASML是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備制造商之一，但其產(chǎn)品的限制可能會(huì)對(duì)全球芯片供應(yīng)鏈帶來一定沖擊。這也提醒著各國半導(dǎo)體企業(yè)和相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)，加強(qiáng)自主研發(fā)和創(chuàng)新，以減少對(duì)特定供應(yīng)商的依賴，提高產(chǎn)業(yè)的自主可控能力。
