【ITBEAR科技資訊】7月6日消息，據ITBEAR科技資訊了解，荷蘭半導體設備制造商ASML近日被報道試圖繞過荷蘭的新銷售許可禁令，計劃推出一款專為中國市場設計的特別版DUV光刻機。該消息稱，如果這一計劃得以繼續推進，中芯國際、華虹等中國半導體企業將能夠繼續使用荷蘭生產的設備來生產28納米及更成熟工藝的芯片。
據了解，這款特別版DUV光刻機是基于ASML的Twinscan NXT: 1980Di光刻系統進行改造的。而Twinscan NXT: 1980Di光刻系統是ASML在10年前推出的一款舊型號，因此不在此次荷蘭官方禁令的限制范圍內。
Twinscan NXT: 1980Di光刻系統是ASML目前效率相對較低的光刻機型之一，它支持NA 1.35光學器件，分辨率可達到小于38納米，理論上可以應用于7納米工藝的生產。目前大多數晶圓廠使用1980Di光刻機主要生產14納米及更高工藝的芯片，而很少使用它來生產7納米芯片。
ASML的此次行動被視為一種規避荷蘭新銷售許可禁令的嘗試，旨在滿足中國市場對高端半導體設備的需求。這也反映了中國半導體行業對先進工藝技術和設備的迫切需求，尤其是在產能緊張和國內芯片自給自足戰略的背景下。
盡管ASML的特別版DUV光刻機基于舊型號改造，但其推出仍可能引起一定的關注和爭議。荷蘭政府此前對向中國出口先進半導體制造設備實施了一些限制，這一舉措被視為對華為等中國科技巨頭的制裁措施之一。然而，ASML通過此次推出特別版光刻機，似乎試圖通過間接方式滿足中國市場的需求，以維持與中國半導體企業的合作關系。
