【ITBEAR科技資訊】9月28日消息，英特爾公司今日宣布了一項重大突破：其位于愛爾蘭的工廠已經(jīng)完成了擴建和技術(shù)升級，為即將開始的Intel 4工藝技術(shù)芯片的大規(guī)模生產(chǎn)做好了準(zhǔn)備。此前，由于疫情等因素，工程進度一直受到延誤，然而，如今這一重要項目終于取得了突破性的進展。
據(jù)悉，英特爾在愛爾蘭工廠成功安裝和調(diào)試了Intel 4工藝技術(shù)的生產(chǎn)設(shè)備，其中包括首臺EUV光刻掃描儀。這項EUV(極紫外光刻)技術(shù)被認(rèn)為是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的一項關(guān)鍵創(chuàng)新，能夠?qū)崿F(xiàn)更高的制程精度，有助于生產(chǎn)出更先進的芯片產(chǎn)品。
英特爾的官方公告中沒有透露過多細(xì)節(jié)，但預(yù)告了一個令人期待的活動。據(jù)ITBEAR科技資訊了解，公司計劃在9月29日舉行一場現(xiàn)場活動，屆時高層領(lǐng)導(dǎo)將出席開幕式，慶祝Intel 4工藝技術(shù)的正式大規(guī)模量產(chǎn)。
英特爾表示，利用這一新技術(shù)，他們將能夠開發(fā)各種領(lǐng)先的產(chǎn)品，包括支持人工智能系統(tǒng)命令的PC處理器，比如即將推出的Meteor Lake，以及服務(wù)于數(shù)據(jù)中心的高性能芯片等。此外，英特爾還計劃擴大美國工廠的規(guī)模，以滿足對Intel 4工藝處理器的生產(chǎn)需求。
這一重要里程碑標(biāo)志著英特爾在半導(dǎo)體領(lǐng)域的持續(xù)投資和技術(shù)創(chuàng)新，有望在市場競爭中保持競爭力，并滿足不斷增長的高性能芯片需求。隨著Intel 4工藝技術(shù)的正式投產(chǎn)，業(yè)界對英特爾未來產(chǎn)品創(chuàng)新的期望也日益增加。
