【ITBEAR科技資訊】12月27日消息，佳能在今年的10月向世界宣布了其最新技術(shù)突破，F(xiàn)PA-1200NZ2C納米壓印光刻(NIL)設(shè)備。這項(xiàng)技術(shù)標(biāo)志著半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的一個(gè)重要轉(zhuǎn)折點(diǎn)，為行業(yè)內(nèi)的小型制造商提供了制造高級(jí)芯片的新途徑。
在一個(gè)近期的聲明中，佳能社長(zhǎng)御手洗富士夫強(qiáng)調(diào)了納米壓印光刻技術(shù)的重要性，他指出這項(xiàng)技術(shù)將為那些追求制造先進(jìn)芯片的小型半導(dǎo)體公司開(kāi)辟全新的可能性。佳能的技術(shù)專家?guī)r本和德也分享了這項(xiàng)技術(shù)的具體工作原理：通過(guò)將帶有電路圖案的掩模直接壓印到晶圓上，能夠一次性在正確的位置形成復(fù)雜的二維或三維電路圖案。這種方法的一個(gè)顯著優(yōu)勢(shì)是，通過(guò)不斷地改進(jìn)掩模設(shè)計(jì)，理論上甚至可以生產(chǎn)出2納米級(jí)別的芯片。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，佳能的納米壓印光刻技術(shù)已經(jīng)能夠生產(chǎn)至少5納米工藝尺寸的芯片。在目前這一領(lǐng)域由ASML主導(dǎo)的背景下，佳能的這一突破意味著它可以逐漸縮小與ASML之間的技術(shù)差距。巖本和德在談及設(shè)備成本時(shí)透露，盡管不同客戶的具體成本會(huì)有所不同，但納米壓印工藝的成本估計(jì)最低可以達(dá)到傳統(tǒng)光刻設(shè)備的一半。
近期，御手洗富士夫在一次報(bào)道中提到，佳能的NIL產(chǎn)品價(jià)格將比ASML的極紫外光刻(EUV)設(shè)備便宜一個(gè)數(shù)量級(jí)。這一價(jià)格優(yōu)勢(shì)，加上其技術(shù)的進(jìn)步，預(yù)示著佳能在半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力正在快速提升。佳能與日本印刷綜合企業(yè)大日本印刷株式會(huì)社(Dai Nippon Printing Co.)以及存儲(chǔ)芯片制造商鎧俠控股(Kioxia Holdings Corp.)的合作研究已經(jīng)進(jìn)行了近十年，這為其技術(shù)的成熟和實(shí)用化奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
不同于基于反射光工作的極紫外光刻技術(shù)，佳能研究的納米壓印技術(shù)直接將電路圖案印刻在晶圓上，制造出的芯片在幾何形狀上與最先進(jìn)節(jié)點(diǎn)相當(dāng)，盡管速度較慢。佳能的這種新型設(shè)備有望減少芯片制造商對(duì)芯片代工廠的依賴，同時(shí)也為臺(tái)積電和三星電子等大型芯片代工廠提供了更多的可能性，它們可以更容易地批量生產(chǎn)芯片。這種機(jī)器的功率需求僅為同類EUV產(chǎn)品的十分之一。
自2014年起，佳能開(kāi)始大力投資于納米壓印技術(shù)，收購(gòu)了專注于這一領(lǐng)域的分子壓模公司 (Molecular Imprints Inc.)。作為全球領(lǐng)先的芯片制造商臺(tái)積電的供應(yīng)商之一，佳能目前正在日本宇都宮市建設(shè)其20年來(lái)的第一家光刻設(shè)備新工廠，預(yù)計(jì)將在2025年開(kāi)始運(yùn)營(yíng)。巖本和德在接受媒體采訪時(shí)表示，佳能已經(jīng)收到了來(lái)自半導(dǎo)體制造商、大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)的大量詢問(wèn)，這表明市場(chǎng)對(duì)于納米壓印技術(shù)作為EUV技術(shù)替代品的興趣日益增加，預(yù)計(jì)該技術(shù)將被廣泛應(yīng)用于包括閃存、個(gè)人計(jì)算機(jī)的DRAM和邏輯IC等在內(nèi)的各種半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)中。
